产品简介

Allalin是一种纳米分辨率光谱仪器，基于一种被称为定量阴极荧光的突破性技术，它将光学显微镜和扫描 电子显微镜（SEM）集成到一个系统中。Allalin允许“不折不扣”的大视场/快速扫描同时获得扫描电镜成像 与高光谱或全色CL图。该系统的构建是为了在不牺牲扫描电镜（SEM）性能的前提下获得最\佳的阴极荧光 性能：光学显微镜和扫描电镜的物镜被周密的整合在一起，使它们的焦平面相互匹配；光学显微镜以亚微 米精度加工，与传统的CL技术相比，具有高数值孔径（N.A.0.71）的消色差、高数值孔径（N.A.0.71）检 测，在大视场（高达300µm）下具有优\越的光子收集效率。因此，定量阴极荧光，其中与仪器相关的工件 可以从本质上排除作为光谱特征或对比度的原因，这使阴极荧光首\次变的可信。

Allalin是为那些需要遵循严格的技术路径和快速获取非\常精\确的光谱信息而设计的， 而这些信息是传统方法无\法\企\及的。 在半导体故障分析、开发和研究中，Allalin的光谱测量能力为快速可靠的缺陷检测和 定位提供了无\与\伦\比的解决方案。经过验证的数据类型包括位错密度、材料成分波 动、应变、掺杂剂类型和浓度的测量；以及其他广泛的应用。 在科学研究中，Allalin能够创建纳米分辨率的光谱图，这使得它成为深\入了解纳米尺 度材料物理特性的终\极\工具。 Allalin拥有一套全\面的功能选项：覆盖紫外-红外波长范围的各种探测器选择、SE检测 器、稳定的低温样品台和高灵敏度的EBIC（电子束感应电流）检测解决方案。

产品优势

性能优势 一个高\度精\密集成化的CL-SEM系统

– 将光学收集放在电子柱内

– 对于CL，需要零光学对准

– 在300µm的视野（FOV）范围内最\高的收集效率

– 确保化学发光均匀性和再现性，使系统定量和定 性。定量：在300µm的大FOV（无渐晕）下，光子收 集效率恒定（±1%）；在不移动样本的情况下，执行 300µm的图谱：阴极荧光结果可重复且可比较

– 使用近光剂量，减少了对敏\感样品造成光束损坏的可 能性

– 快！单次高光谱CL-map测量时间从18秒到30分钟不 等，而竞\争\对\手是30分钟到数小时

– 同时生成SEM图像和高光谱CL图像，而不会降低电子 探针的尺寸

– Schottky FEG适用于高电流密度：30 pA至300 nA – CL模式下的扫描电镜最\高分辨率：低至3nm

– 直观的用户界面和专\用软件 – 触摸屏控制，具有易于导航的基于上下文的GUI，无 需专家操作工具

– 专\用Attomap高光谱分析软件（见单独的手册）

– 具有低温选项的高精度纳米定位工作台（10 K至室 温）

– 高\通用性：光学集线器，用于在更大的光谱系统中 集成Attolight CL仪器或补充其功能

应用示例

​– 纳米半导体光学特性

– 晶体缺陷检测和定位（螺型位错、堆垛缺陷、掺杂物 等）

– 纳米级成分波动的测定

– 掺杂计量

– 失效分析

– 纳米光子学