国产光刻胶
产品名称： 国产光刻胶
英文名称： photoresist
产品编号： ZXSU005-1
产品价格： null
产品产地： null
品牌商标： null
更新时间： 2023-11-10T09:32
使用范围： null
- 联系人 : 倪芸蕾
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简介：
中芯启恒SU-8 2000/3000系列光刻胶是负性光刻胶，采用环戊酮溶剂配制而成，在超厚度胶膜涂布工艺中，图案化的结构有较好的稳定性和高分辨率，其膜厚范围比任何其他市售光刻胶更广泛，单次旋涂工艺胶膜厚度可选0.5-300um范围，可根据需要进行多次旋涂，从而获得更厚的胶膜。自2019年推出后，受到了同行业客户的青睐，在MEMS微加工领域占据越来越多的市场份额。
在微流控领域，SU-8系列光刻胶主要用于在硅片衬底上加工SU-8胶的凸起/凹陷结构，作为浇筑PDMS微流控芯片的母版。此外SU-8系列光刻胶也可直接在单晶硅、玻璃、氮化硅等基材表面加工SU-8光刻胶结构。
中芯启恒SU-8 2000/3000系列光刻胶根据粘度不同，划分为以下型号： SU-8 2000.5、SU-8 2002、SU-8 2005 、SU-8 2010、SU-8 2015、SU-8 2025、SU-8 2050、SU-8 2075、SU-8 2100、SU-8 2150；SU-8 3010、SU-8 3025、SU-8 3050。
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中芯启恒SU-8 2000/3000系列 |
单次旋涂膜厚范围 |
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SU-8 2000.5 |
0.5-0.8um |
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SU-8 2002 |
2-2.9um |
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SU-8 2005 |
2-8um |
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SU-8 2010 |
10-20um |
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SU-8 2015 |
12-38um |
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SU-8 2025 |
20-80um |
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SU-8 2050 |
40-170um |
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SU-8 2075 |
60-240um |
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SU-8 2100 |
100-270um |
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SU-8 2150 |
190-650um |
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SU-8 3010 |
8-15um |
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SU-8 3025 |
20-60um |
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SU-8 3050 |
45-100um |
备注：不同膜厚可通过调节匀胶机转速获得，因客户实验设备不同，实际参数需进行微调。建议购买配套的显影液，一般需要购买的显影液与光刻胶的体积比为4:1或者8:1，显影液的详细信息请咨询客服人员。
应用案例：
（1）下图所示为使用SU-8光刻胶在硅片衬底上加工的用于PDMS微流控芯片浇筑的母版。
（2）下图所示是微柱阵列结构实物图
匀胶曲线
图1 SU-8 2000.5、2002 匀胶曲线
图2 SU-8 2005、2010、2015 匀胶曲线
图3 SU-8 2025、2050、2075 匀胶曲线
图4 SU-8 2100、2150 匀胶曲线
图5 SU-8 3010、3025、3050 匀胶曲线